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zeroK Nanotech推出的基于低溫銫離子源（Cs+ LoTIS）的新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng)——FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）和相應的離子源升配件——FIB：RETRO，采用的低溫技術(shù)可以減少離子束中的隨機運動，從而使FIB：ZERO中的離子束斑與傳統(tǒng)離子源產(chǎn)生的束斑相比具有更高的亮度，更小的尺寸和更低的能量散失。同時，還可以產(chǎn)生更多的二次離子，獲得更清晰的成像。

3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機-NanoFrazor Explore的問世，源于IBM蘇黎世研發(fā)中心在納米加工技術(shù)的研究成果。 NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)直寫機*次將納米尺度下的3D結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。通過靜電力準確控制的直寫垂直精度高達2nm，可以將256灰度反映的高度信息精細的轉(zhuǎn)移到直寫介質(zhì)上。

Microwriter ML3小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊（70cm X 70cm X 70cm），無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。