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產(chǎn)品中心

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當前位置:首頁產(chǎn)品中心材料制備/樣品合成薄膜、顆粒、膠體等制備Nano CVD臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列

臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列

產(chǎn)品簡介

Moorfield與學術(shù)界緊密合作研發(fā)的臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列可以用來快速生產(chǎn)高質(zhì)量的石墨烯用于學術(shù)和應(yīng)用研究。

產(chǎn)品型號:Nano CVD
更新時間:2024-04-18
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:2243
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臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列-Nano CVD

 

產(chǎn)品簡介:

    臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列-Nano CVD是為制備高質(zhì)量的石墨烯與碳納米管而開發(fā)的高性能臺式CVD系統(tǒng)。在與諾獎科研團隊的長期合作中獲得的豐富經(jīng)驗使該系列產(chǎn)品具有非常高的性能。別是針對石墨烯、碳納米管等不同的應(yīng)用進行了針對性的化。該系列產(chǎn)品操作簡便,生長條件控制準確,生長迅速、制備出的樣品具有高質(zhì)量、高可重復(fù)性,這些點使得該系列產(chǎn)品受到多個石墨烯研究團隊的贊譽。該系列產(chǎn)品適合于想要制備高質(zhì)量石墨烯或碳納米管用于前沿學術(shù)研究的團隊。例如,埃克塞大學、哈德斯菲爾德大學、萊頓大學、亞森工業(yè)大學這些的高校均是nanoCVD系列的用戶。

    nanoCVD采用全新的設(shè)計理念,可以快速、高質(zhì)量地生產(chǎn)石墨烯或碳納米管。與傳統(tǒng)的簡易CVD(管式爐)相比,該系統(tǒng)基于冷壁設(shè)計方案,具有以下主要點:

◎  系統(tǒng)可以快速的升溫和降溫。

◎  更加準確的條件控制和可靠的工藝重現(xiàn)性。

◎  安全性設(shè)計,具有尾氣稀釋模塊。

◎  智能化設(shè)計,全自動引導(dǎo)式觸屏操作系統(tǒng)。

◎  支持自動程序的設(shè)定與儲存。

◎  雄厚的技術(shù)積累,業(yè)的技術(shù)支持。

設(shè)備型號:

臺式超高質(zhì)量石墨烯快速制備CVD系統(tǒng)- nanoCVD 8G

    nanoCVD-8G系統(tǒng)是性能穩(wěn)定的快速的石墨烯生長系統(tǒng)。nanoCVD-8G具有壓強自動控制系統(tǒng),可以準確的控制石墨烯生長過程中的氣氛條件。系統(tǒng)采用低熱容的樣品臺可在2分鐘內(nèi)升溫至1000℃并準確控溫。該裝置采用了冷壁技術(shù),樣品生長完畢后可以快速降溫。正是因為這些條件可以讓用戶在30分鐘內(nèi)即可獲得高質(zhì)量的石墨烯。用戶通過HMI觸屏進行操作,所有的硬件都是自動化的。更有內(nèi)置的標準石墨烯生長示例程序供用戶參考。該系統(tǒng)安裝迅速,非常適合需要持續(xù)快速獲取高質(zhì)量石墨烯用于高質(zhì)量學術(shù)研究的團隊。??巳髮W、哈德斯菲爾德大學、萊頓大學、亞森工業(yè)大學等很多著名的高校都是該系統(tǒng)的用戶。

主要點:

 

◎  合成高質(zhì)量、可重復(fù)的石墨烯

◎  生長條件準確控制

◎  高達溫度:1100 °C

◎  生長時間:<30 min

◎  基片尺寸大:20 × 40 mm2

◎  全自動過程控制

◎  MFC流量計控制過程氣體 (Ar、H2與CH4

◎  用戶友好型觸屏控制

◎  可設(shè)定、存儲多個生長程序

◎  可連接電腦記錄數(shù)據(jù)

◎  易于維護

◎  全面安全性設(shè)計,尾氣稀釋模塊

◎  兼容超凈間

◎  系統(tǒng)性能穩(wěn)定

 

 

 

 

部分數(shù)據(jù)展示:

小型等離子增強大尺寸石墨烯制備CVD系統(tǒng) - nanoCVD WPG

    nanoCVD-WPG將nanoCVD-8G高質(zhì)量石墨烯生長的功能與等離子體增強技術(shù)相結(jié)合,系統(tǒng)可制備晶圓尺寸(3英寸或4英寸)別的樣品。除此之外,用該系統(tǒng)準確的生長控制條件可以制備多種高質(zhì)量的2D材料,該系統(tǒng)是小型CVD系統(tǒng)性能上的個重大飛躍。全新的設(shè)計方案和控制系統(tǒng)使該系統(tǒng)成為制備大面積2D樣品的上佳選擇。

    應(yīng)用域包括:石墨烯和2D材料、光伏電、觸屏材料、高性能生物電子材料、傳感器、儲能材料。

主要點:

 

  • 晶圓樣品尺寸: 3英寸、4英寸
  • 150 W/13.56 MHz RF 電源
  • 多個等離子體電
  • 高達溫度1100 °C
  • 腔體冷壁技術(shù)
  • 全自動準確條件控制
  • 用戶友好的觸屏操作
  • 可設(shè)定、存儲多個生長程序
  • 可連接電腦記錄數(shù)據(jù)
  • 易于維護
  • 全面安全性設(shè)計,尾氣稀釋模塊
  • 兼容超凈室
  • 基于成熟的NanoCVD技術(shù)

 

生長條件:

◎  襯底:Cu、Ni等薄膜或薄片

◎  工作原料:CH4,C2H4, PMMA等

◎  保護氣體:H2,Ar,N2

 

典型配置指標:

◎  腔體:腔壁水冷技術(shù),熱屏蔽不銹鋼腔體

◎  真空系統(tǒng):分子泵系統(tǒng),5×10-7 mbar本底真空。

◎  樣品臺:大4英寸直徑,高達1100°C 

◎  操作控制:觸摸屏/電腦接口;可手動控制或自動控制

◎  氣體控制:MFC 流量計,Ar,CH4H2為標配種類。

◎  過程控制:自動控制

◎  等離子源:150 W/13.56 MHz RF 電源,樣品臺附近或需要的位置產(chǎn)生等離子體。   

◎  安全性:冷卻與真空鎖系統(tǒng),氣體稀釋模塊。

 

 

 

臺式超準碳納米管快速制備CVD系統(tǒng) - nanoCVD 8N

    nanoCVD-8N與石墨烯生長系統(tǒng)nanoCVD-8G有諸多共同之處,并針對碳納米管生長條件進行了化。這些條件對于碳納米管(CNT)樣品的質(zhì)量和可重復(fù)性(主要是單壁形式)是至關(guān)重要的。創(chuàng)新的冷壁式腔體與傳統(tǒng)管式設(shè)備相比更易準確控制實驗條件和快速升降溫。nanoCVD-8N具有智能的控制系統(tǒng)和完備的安全性設(shè)計。設(shè)備易于安裝,易于使用,是快速進入高質(zhì)量研究的理想選擇。該系統(tǒng)獲得沃里克大學用戶的高度贊譽。

    碳納米管可采用Fe、Co、Ni的納米顆粒作為催化劑生長在SiO2/Si, Si3N4以及石英等襯底上。

    通過襯底與催化劑的選擇,可以生長的碳納米管有:

•   隨機:  隨機方向的相互交疊的單壁碳納米管

•   有序:  平行的單壁碳納米管

•   豎直:  豎直的單壁碳納米管束

主要點:

 

◎  合成的碳納米管具有很高的可重復(fù)性;

◎  門為單壁碳納米管進行了化;

◎  生長條件準確控制;

◎  高達溫度:1100 °C;

◎  MFC流量計控制過程氣體 (Ar、H2與CH4);   

◎  基片尺寸:大20 × 40 mm2;

◎  生長時間:<30 min;

◎  全自動生長條件準確控制;

◎  用戶友好型觸屏;

◎  可設(shè)定、存儲多個生長程序

◎  可連接電腦記錄數(shù)據(jù);

◎  易于維護;

◎  全面安全性設(shè)計,尾氣稀釋模塊;

◎  兼容超凈間;

◎  系統(tǒng)性能穩(wěn)定;

 

部分數(shù)據(jù)展示:

 

 

發(fā)表文章

Residual metallic contamination of transferred chemical vapor deposited graphene

Lupina, G., et al. ACS Nano 2015 DOI: 10.1021/acsnano.5b01261

本文作者研究了通常用于將CVD石墨烯放置到應(yīng)用襯底上的濕轉(zhuǎn)移工藝會導(dǎo)致材料的微量污染。這些純度會對石墨烯的其他殊性產(chǎn)生不影響,并對電子和光電應(yīng)用產(chǎn)生影響。

相關(guān)設(shè)備: nanoCVD-8G

 

Transparent conductive graphene textile fibers

Neves, A. I. S., et al. Scientific Reports 2015 DOI: 10.1038/srep09866

使用nanoCVD-8G制成的石墨烯被轉(zhuǎn)移到纖維上,*生產(chǎn)出柔韌的、*嵌入的紡織電。石墨烯的高質(zhì)量意味著電有超低的表面電阻和高的機械穩(wěn)定性。

相關(guān)設(shè)備: nanoCVD-8G

 

High quality monolayer graphene synthesized by resistive heating cold wall chemical vapor deposition

Bointon, T. H., et al. Advanced Materials 2015 DOI: 10.1002/adma.201501600

展示了冷壁法CVD合成石墨烯的勢,并報道了使用nanoCVD – 8G制備的高質(zhì)量石墨烯材料具有超高的載流子遷移率,表現(xiàn)出半整數(shù)量子霍爾效應(yīng),這與剝離制備的樣品相當。

相關(guān)設(shè)備: nanoCVD-8G

 

Mapping nanoscale electrochemistry of individual single-walled carbon nanotubes

Güell, A. G., et al. Nano Letters 2014 DOI: 10.1021/nl403752e

用nanoCVD – 8N技術(shù)制備了單壁碳納米管,并用電化學技術(shù)對其進行了研究。高分辨率的測量可以檢查單個單壁碳納米管的性。這發(fā)現(xiàn)對未來使用SWNT電的器件設(shè)計具有重要意義。

相關(guān)設(shè)備: nanoCVD-8N

 

Nanoscale electrocatalysis: Visualizing oxygen reduction at pristine, kinked, and oxidized sites on individual carbon nanotubes

Byers, J. C., et al. Journal of the American Chemical Society 2014 DOI: 10.1021/ja505708y

電化學技術(shù),結(jié)合使用nanoCVD - 8N技術(shù)產(chǎn)生的單壁碳納米管,被用來證明即使在沒有摻雜、修飾或缺陷的情況下,碳納米管也表現(xiàn)出顯著的活性。

相關(guān)設(shè)備: nanoCVD-8N

 

用戶單位

??巳髮W

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哈德斯菲爾德大學

    

萊頓大學

 

亞琛工業(yè)大學

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