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當前位置：首頁產(chǎn)品中心材料制備/樣品合成爐子（燒結(jié)爐、電弧爐等）HT-RTA59HD超高溫高速退火爐

超高溫高速退火爐

產(chǎn)品簡介

日本 ADVANCE RIKO公司的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，對SiC以及其它高熔點材料進行退火處理。

產(chǎn)品型號：HT-RTA59HD
更新時間：2024-04-18
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
訪問量：2091
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超高溫高速退火爐

 

                             ——在10s 內(nèi)將15mm×15mm 的試樣加熱到1800℃

 

型號：HT-RTA59HD 

  

產(chǎn)品介紹

    這款桌面式超高溫高速退火爐以大功率點聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，對SiC以及其它高熔點材料進行退火處理。

 

應(yīng)用

  • SiC氧化膜的生成和激活；
  • 半導(dǎo)體開發(fā)與研究；
  • 玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理；
  • 作為熱處理爐對高熔點材料進行熱處理；
  • 陶瓷材料的熱沖擊測試。 

 

點

可以在10s內(nèi)加熱到超高溫1800℃；
可以加熱后直接水淬；
紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；		緊湊的桌面型設(shè)計；
通過USB與電腦連接，輸入溫度參數(shù)；
在加熱過程中，在電腦屏幕顯示溫度。

 

 帶水淬的型號：CAS-59AQ

 

設(shè)備參數(shù)

 

溫度范圍室溫-1800℃
樣品尺寸W15mm×L15mm×T1mm
樣品支架氧化鋁或者高純碳
加熱氛圍多種
熱電偶JIS B φ0.3 （W-Re可選） 

 

設(shè)備結(jié)構(gòu)以及樣品支架

 


 

 

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