便攜式芯片原子力顯微鏡

產(chǎn)品簡介

加拿大ICSPI公司設(shè)計(jì)和生產(chǎn)的便攜式nGauge原子力顯微鏡（AFM），基于其·有的芯片式自感應(yīng)探針技術(shù)，擺脫了傳統(tǒng)AFM對激光的依賴，帶給了傳統(tǒng)AFM變化！ nGauge便攜式芯片原子力顯微鏡（AFM）具有小巧靈活、方便攜帶，操作簡單，掃描速度快，可掃描大尺寸樣品，無需維護(hù)、無需減震、超穩(wěn)定等點(diǎn)，適合各類納米表征應(yīng)用場景。

產(chǎn)品型號：Redux / nGauge

更新時(shí)間：2024-07-19

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問量：2472

產(chǎn)品咨詢 13021034795

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

表面成像分析

磁學(xué)顯微鏡紅外光譜儀顯微鏡干涉儀/位移臺殘余應(yīng)力高光譜電鏡近場光學(xué)

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便攜式原子力顯微鏡

——AFM納米形貌表征從未如此簡單！

ICSPI公司在便攜式nGauge原子力顯微鏡（AFM）的基礎(chǔ)上進(jìn)行了全新升級，推出了新一代的便攜式原子力顯微鏡Redux。Redux原子力顯微鏡（AFM）除了具有方便攜帶，操作簡單，掃描速度快，可掃描大尺寸樣品，無需維護(hù)等優(yōu)點(diǎn)，還可以迅速找到感興趣的測量位置，實(shí)現(xiàn)相關(guān)區(qū)域的快速高精度測量。適合各類納米表征應(yīng)用場景，從科學(xué)研究、高等教育到工業(yè)用戶的樣品3D表面形貌快速成像分析等，革命性的創(chuàng)新技術(shù)的降低了傳統(tǒng)AFM的復(fù)雜操作，也的拓寬了傳統(tǒng)AFM的應(yīng)用范圍！　

便攜式芯片原子力顯微鏡

適合各類納米表征應(yīng)用場景

半導(dǎo)體工業(yè)

材料工業(yè)

納米技術(shù)

生命科技

涂料，聚合物和復(fù)合材料等

高等教育

......

產(chǎn)品特點(diǎn)

更小巧，更便攜

AFM微納機(jī)電芯片，使得Redux/nGauge原子力顯微鏡（AFM）系統(tǒng)僅有公文包大小，可隨身攜帶。

更簡單，更易用

只需點(diǎn)擊鼠標(biāo)三次即可獲得樣品表面納米級形貌信息，無需配置減震平臺。

第一步：通過內(nèi)置光學(xué)顯微鏡尋找掃描區(qū)域；

第二步：Redux/nGauge幫助掃描探針自動尋找樣品表面；

第三步：點(diǎn)擊掃描，獲取樣品表面形貌信息。

維護(hù)簡單，性價(jià)比高

類金剛石針尖保證AFM探針超長壽命，且無需繁瑣的更換針尖操作和其他后期維護(hù)工作。

便攜式芯片原子力顯微鏡

Redux采用的壓電AFM探針技術(shù)以及耐用的探針針尖（左圖）。中圖為一根探針第215次掃描樣品的結(jié)果，右圖為第1164次掃描樣品的結(jié)果

設(shè)備參數(shù)：

Redux AFM

便攜式芯片原子力顯微鏡

左：Redux原子力顯微鏡（AFM）；右：Redux原子力顯微鏡實(shí)際使用場景

Redux微型原子力顯微鏡n5（噪聲基底優(yōu)于0.5nm）

Redux微型原子力顯微鏡n7（噪聲基底優(yōu)于0.15nm）

產(chǎn)品特點(diǎn)

快速：1分鐘內(nèi)便可獲取樣品信息

易用：掃描只需點(diǎn)擊三次鼠標(biāo)

簡單：全新升級的X, Y和Z定位系統(tǒng)

技術(shù)參數(shù)

AFM技術(shù)參數(shù)
最大掃描范圍(XY)	20 μm x 20 μm
最大掃描高度(Z)	10 μm
掃描速度	80 秒 (256 x 256 pixel, 20 μm x 20 μm)
噪音基底	<0.5nm 或 <0.15 nm
XY掃描分辨率	<0.5 nm
樣品臺參數(shù)
樣品臺尺寸	105 mm x 95 mm x 20 mm
可移動范圍	10 mm x 10 mm
光學(xué)顯微鏡參數(shù)
物鏡	10x, 0.25 NA
視場	2.25 mm × 1.25 mm
分辨率	1920 x 1080 FHD Video output
整體尺寸
尺寸 (長x 寬 x 高)	23.2 cm × 22.0 cm × 24.6 cm
重量	4 kg
軟件需求
連接方式	USB
操作系統(tǒng)	Windows 10, 11
電源
電壓	100-240 VAC ~ 50/60 Hz
電流	12 VDC, 5 A

nGauge AFM

成像類型：形貌圖，相位圖

XY 掃描區(qū)域：100 µm × 100 µm

XY 掃描分辨率：<0.5 nm

Z向掃描范圍：10 µm

快速掃描成像時(shí)間：16 秒

可表征樣品大尺寸：100 mm x 50 mm x 20 mm

可表征樣品大重量：1 kg

各表征手段對比

	Redux/nGauge AFM	傳統(tǒng) AFM	SEM
大氣環(huán)境下運(yùn)行
自動尋找樣品表面			N/A
設(shè)備安裝時(shí)間	5 分鐘	1-2 周	1-2 周
掃描樣品時(shí)間	2 分鐘	1 小時(shí)	30 分鐘 – 1 小時(shí)
隨測隨走
培訓(xùn)時(shí)間	1 小時(shí)	12+ 小時(shí)	12+ 小時(shí)
無需激光對準(zhǔn)
普通市電/USB供電
更換探針難度			N/A
3D表面形貌成像
成像分辨率
不導(dǎo)電樣品表征

測試數(shù)據(jù)

微柱陣列三維成像

二氧化硅聚合物復(fù)合材料相掃描結(jié)果

便攜式芯片原子力顯微鏡

半間距為200nm的光柵形貌表征

便攜式芯片原子力顯微鏡

數(shù)據(jù)存儲單元納米結(jié)構(gòu)三維形貌表征

便攜式芯片原子力顯微鏡

丹麥Akasel公司檢測鋼鐵拋光樣品表面

美國Biotech公司表征皮膚樣本

美國Applied Nanotool公司微納光學(xué)器件品控

光電子域器件檢測

發(fā)表文章

1. Zhao, P., et al., Multiple antibiotics distribution in drinking water and their co-adsorption behaviors by different size fractions of natural particles. Science of The Total Environment, 2021. 775: p. 145846.

2. Guo, P., et al., Vanadium dioxide phase change thin films produced by thermal oxidation of metallic vanadium. Thin Solid Films, 2020. 707: p. 138117.

3. Connolly, L.G., et al., A tip-based metrology framework for real-time process feedback of roll-to-roll fabricated nanopatterned structures. Precision Engineering, 2019. 57: p. 137-148.

4. O'Neill, C., et al., Effect of tooth brushing on gloss retention and surface roughness of five bulk‐fill resin composites. Journal of Esthetic and Restorative Dentistry, 2018. 30(1): p. 59-69.

用戶單位

nGauge全球代表性用戶