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激光加熱基座晶體生長爐（LHPG）具有無坩堝、無污染、溫度梯度大、生長速度快、適合生長高熔點的高質量晶體等*勢。

微波等離子化學氣相沉積技術（MPCVD）制造的微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng), 通過等離子增加前驅體的反應速率，降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態(tài)好的高質量硬質薄膜和晶體。

多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的款高精度的磁控濺射噴金儀。

臺式精準氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)ANNEAL可用于二維材料以及襯底、樣品在定氛圍中的高精度熱處理，也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。

Moorfield公司近十年來與曼徹斯大學諾獎技術團隊緊密合作，推出的臺式高精度薄膜制備與加工系統(tǒng)系列產品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的贊譽。

Moorfield臺式二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH，采用準確控制技術，為石墨烯和2D材料的研究提供高精度的加工刻蝕。