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瑞士Cytosurge是將原子力系統(tǒng)、微流控系統(tǒng)、細(xì)胞培養(yǎng)系統(tǒng)為體的單細(xì)胞操作系統(tǒng)。主要功能包括單細(xì)胞注射、單細(xì)胞提取以及單細(xì)胞分離。FluidFM OMNIUM方便了單細(xì)胞水平的研究,尤其適合應(yīng)用于醫(yī)療、單細(xì)胞生物學(xué)、單細(xì)胞質(zhì)譜、單細(xì)胞基因編輯、藥物研發(fā)等域。
原子層沉積(Atomic layer deposition)是將氣相前驅(qū)體脈沖交替通入反應(yīng)器,化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的種方法,是種可以將物質(zhì)以單原子膜形式層層鍍在襯底表面的方法,因此,它是種真正的“納米”技術(shù),以精確控制方式實現(xiàn)納米的超薄薄膜沉積。三維原子層沉積系統(tǒng)ALD用飽和化學(xué)吸附的性,可以確保對大面積、多空、管狀、粉末或其他復(fù)雜形狀基體的高保形的均勻沉積。
Moorfield公司近十年來與曼徹斯大學(xué)諾獎技術(shù)團隊緊密合作,推出的PVD薄膜制備系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的贊譽。
Moorfield公司近十年來與曼徹斯大學(xué)諾獎技術(shù)團隊緊密合作,推出的薄膜磁控濺射系統(tǒng)系列產(chǎn)品由于其體積小巧、性能越、易于操作更是受到很多科研單位的贊譽。
zeroK Nanotech推出的基于低溫銫離子源(Cs+ LoTIS)的新代高精度低溫銫離子源FIB系統(tǒng)——FIB: ZERO(Cs+ LoTIS)和相應(yīng)的離子源升配件——FIB:RETRO,采用的低溫技術(shù)可以減少離子束中的隨機運動,從而使FIB:ZERO中的離子束斑與傳統(tǒng)離子源產(chǎn)生的束斑相比具有更高的亮度,更小的尺寸和更低的能量散失。同時,還可以產(chǎn)生更多的二次離子,獲得更清晰的成像。
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