報告簡介：

在制備新型生物芯片器件時，通常會涉及到光刻工藝。而在諸多光刻技術中，無掩膜光刻技術因其*的勢和點，成為當前·為流行高效的種。與傳統(tǒng)掩膜版技術相比，無掩膜曝光技術具有高分辨、高對準精度、更加簡易操作等諸多勢，能夠輕松實現(xiàn)微米、亞微米精度的光刻、套刻。配合各類標準微加工工藝，能夠方便快捷地實現(xiàn)各類生物芯片器件的制備。在本報告中，將重點介紹無掩膜光刻技術新前沿進展，結(jié)合來自國內(nèi)外以色列理工，IBM，復旦等科研單位在國際期刊發(fā)表的研究成果，探討無掩膜光刻技術在生物芯片域的應用。

直播二維碼：

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報告時間：

2021年12月15日 14:00（北京時間）

主講人：

喻博聞  博士

喻博聞博士，畢業(yè)于澳大亞昆士蘭大學機械與礦業(yè)學院，博士期間研究方向為微納機電器件中的界面問題，以及微納尺度操縱和加工技術。于2021年4月加入Quantum Design中國子公司表面光譜部門，負責微納加工相關產(chǎn)品在全國的應用開發(fā)、技術支持及市場拓展工作。

技術線上論壇：

https://qd-china.com/zh/n/2004111065734

相關產(chǎn)品：

1、小型臺式無掩膜光刻機- MicroWriter ML3

https://www.chem17.com/st166724/product_16839518.html